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1、分析氟（F）到鈾（U）之間的元素；

2、元素分析濃度范圍<1ppm；

3、多元素同時(shí)測(cè)量時(shí)間10-60秒；

4、可選多種進(jìn)樣器；

5、使用CCD相機(jī)進(jìn)行樣品成像；

6、可調(diào)的X射線光斑直徑1- 15 mm，以便適應(yīng)不同樣品大小；

7、高性能電制冷硅漂移探測(cè)器（SDD）；

8、多功能XRF應(yīng)用軟件；

9、薄膜厚度測(cè)量與鍍層分析；

10、UniQuant技術(shù)，無(wú)標(biāo)樣多元素同時(shí)分析技術(shù)；

11、多語(yǔ)言支持；

12、機(jī)械耐久性，可保證長(zhǎng)時(shí)間無(wú)故障運(yùn)行；

13、可選TRACEcom，能夠輕松與LIMS交互；

14、設(shè)計(jì)緊湊，可以輕松移動(dòng)；

15、低噪音、得益于智能溫控風(fēng)扇；

16、自定義和現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用方法建立功能；

17、易于安裝，更易于維護(hù)。